8月19日，西湖大学研究员李西军应邀来电工所进行交流访问，并作了关于电子束曝光工艺技术方面的学术报告。会议由电工所研究员刘俊标主持。
李西军是浙江省3D微纳加工和表征研究重点实验室副主任，西湖大学先进微纳加工和测试平台主任，浙江省特聘专家，主要从事微纳加工工艺研究和微纳加工装备的开发，先后在半导体材料、集成微纳光学领域发表论文40余篇，并作为第一申请人获国际国内授权专利20余项。
报告中，李西军首先从电子束曝光（EBL）的机遇说起，指出了EBL具有良好的发展前景，介绍了包括电子光学系统以及像差对EBL分辨率的影响等EBL技术基本原理，阐述了电子束曝光的物理化学过程，强调了邻近效应及其修正对提高EBL分辨率的重要性。最后，他介绍了所在实验室相关研究成果，包括微纳3D结构的制作和电荷积累的解决办法等，同时分享了制备特殊器件的曝光方法和经验，对发展多束EBL技术给予了肯定，并给出了建设性意见和建议。
报告结束后，与会人员与李西军研究员就电子束曝光工艺和未来曝光技术等方面进行了深入交流和讨论。
会议现场