| 论文编号: | 0 |
| 第一作者所在部门: | 0 |
| 论文题目: | Effect of Different Substrates on Plasma Jet Discharge Characteristics and Thin Film Properties 不同基底对等离子体射流放电及薄膜特性的影响 |
| 论文题目英文: | |
| 作者: | Wang, Ruixue; Zhang, Penghao; Xu, Hui; Zhang, Cheng; Li, Ting; Shao, Tao 王瑞雪;张鹏浩;徐晖;章程;李挺;邵涛 |
| 论文出处: | 0 |
| 刊物名称: | Gaodianya Jishu/High Voltage Engineering 高电压技术 |
| 年: | 2019 |
| 卷: | 0 |
| 期: | 0 |
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Effect of Different Substrates on Plasma Jet Discharge Characteristics and Thin Film Properties
不同基底对等离子体射流放电及薄膜特性的影响